可編程邏輯控制器(plc)和工廠自動化的發展 為了

2021-09-15

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協助業界人士加速實現相關解決方案,本文除針對工業自動化目標市場的隔離應用,專注于可編程邏輯控制器(plc)和工廠自動化的發展進行詳細的市場與技術分析外,也詳細說明了新型互補式金屬氧化物半導體(CMOS)數字隔離器相較于傳統光耦合隔離方案對工業自動化應用所帶來的顯著優勢。
工業自動化的發展道路上,所包含的許多技術挑戰包括:
設備無法妥協
. 功能至關重要。
. 產品在高應力下性能穩定。
高噪聲環境中的正常工作
. 工廠外部電/磁場的抗干擾性高。
. 高電壓瞬變噪聲的抗干擾能力強。
產品使用壽命長
. 整個溫度范圍,不同VDD電壓,以及長期使用時,關鍵參數穩定。
. 在高應力下產品使用壽命長。

第四:高性能
. 產品性能世界前茅。
. 低延遲和低延遲偏差以確保效率和吞吐量。
基于上述的技術挑戰,適用于工業自動化的高性能隔離產品,高抗干擾性與長壽命。 工廠存在很多高壓設備,透過隔離方案不僅能保護電子系統和人員,噪聲以確保設備的可靠度和穩定性。 隨著工業自動化應用對相關設備的性能要求提升,內建隔離技術也開始發生轉變,傳統的隔離使用光耦合技術,由于先天的特性逐漸難以滿足工業自動化設計需求,包括可靠性較差、時序特性不佳、無余裕的共模瞬態噪聲免疫(CMTI)、能源效率低等,使業界開始將目光移至新型的CMOS電容耦合數字隔離器方案。

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